Difference between revisions of "JEOL"
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= High Voltage Electron Microsocpes = | = High Voltage Electron Microsocpes = | ||
− | {{Tem list entry|Microscope Name=JEM-4000FX (AHP40S)|Microscope Picture File=JEOL-JEM4000FX-system.jpg|Year=|Successor=JEM-4100|Magnification Range=60x-3Kx, 5Kx - 1.2Mx|Magnification Gauge Type=Digital|Specemin Chamber Pressure=|Power Consumption=20 KVA|System Weught=4300 Kg (Console), 500 Kg (Powersupply)|Accelerator Type=Multistage electrostatic Linear Accelerator|Cathode Type=LaB6|Acceleration Voltage=200 KV, 250 KV 300 KV, 350 KV, 400 KV, 100V Steps|Stability=2e-6/min|Cathode Heating Methode=DC|Alignment Methode=Electromagnetic|No. of Condensor Lenses=|Condensor Stability=|Condensor Stigmator=Octopol|Minimum Spot Size=2µm - 2nm|Condensor Alignment=Electromagnetic|Condensor Lens Type=|Holder Type=Side Entery rod|Travel Range=8 mm (x), 2 mm (y), 0.5 mm (z)|Obj. Focal Length=3.1 mm|Obj. Adjustment Range=|Obj. Spherical Error=1.8 mm|Obj. Stability=1e-6/min|Obj. Stigmator=Quadropol|Obj. Alignment Aid=|Point Resolution=1.4|Obj. Lens Type=Electromagnetic|No. of Proj. Lenses=|Proj. Stability=|Proj. Polpiece Config=Single Polpiece|Proj. Mag=|Proj. Alignment=Mechanical, Electromagnetic|Proj. Lens Type=}} | + | {{Tem list entry|Microscope Name=JEM-4000FX (AHP40S)|Microscope Picture File=JEOL-JEM4000FX-system.jpg|Year=|Successor=JEM-4100|Magnification Range=60x-3Kx, 5Kx - 1.2Mx|Magnification Gauge Type=Digital|Specemin Chamber Pressure=|Power Consumption=20 KVA|System Weught=4300 Kg (Console), 500 Kg (Powersupply)|Accelerator Type=Multistage electrostatic Linear Accelerator|Cathode Type=LaB6|Acceleration Voltage=200 KV, 250 KV 300 KV, 350 KV, 400 KV, 100V Steps|Stability=2e-6/min|Cathode Heating Methode=DC|Alignment Methode=Electromagnetic|No. of Condensor Lenses=3 (5)|Condensor Stability=|Condensor Stigmator=Octopol|Minimum Spot Size=2µm - 2nm|Condensor Alignment=Electromagnetic|Condensor Lens Type=Electromagnetic|Holder Type=Side Entery rod|Travel Range=8 mm (x), 2 mm (y), 0.5 mm (z)|Obj. Focal Length=3.1 mm|Obj. Adjustment Range=|Obj. Spherical Error=1.8 mm|Obj. Stability=1e-6/min|Obj. Stigmator=Quadropol|Obj. Alignment Aid=|Point Resolution=1.4|Obj. Lens Type=Electromagnetic|No. of Proj. Lenses=5|Proj. Stability=|Proj. Polpiece Config=Single Polpiece|Proj. Mag=|Proj. Alignment=Mechanical, Electromagnetic|Proj. Lens Type=Electromagnetic}} |
− | {{Tem list entry|Microscope Name=JEM-4000FX (AHP40L)|Microscope Picture File=JEOL-JEM4000FX-system.jpg|Year=|Successor=JEM-4100|Magnification Range=60x-3Kx, 5Kx - 800Kx|Magnification Gauge Type=Digital|Specemin Chamber Pressure=|Power Consumption=20 KVA|System Weught=4300 Kg (Console), 500 Kg (Powersupply)|Accelerator Type=Multistage electrostatic Linear Accelerator|Cathode Type=LaB6|Acceleration Voltage=100 Kv, 150 KV,200 KV, 250 KV 300 KV, 350 KV, 400 KV, 100V Steps|Stability=2e-6/min|Cathode Heating Methode=DC|Alignment Methode=Electromagnetic|No. of Condensor Lenses=|Condensor Stability=|Condensor Stigmator=Octopol|Minimum Spot Size=2µm - 2nm|Condensor Alignment=Electromagnetic|Condensor Lens Type=|Holder Type=Side Entery rod|Travel Range=8 mm (x), 2 mm (y), 0.5 mm (z)|Obj. Focal Length=4.4 mm|Obj. Adjustment Range=|Obj. Spherical Error=3.4 mm|Obj. Stability=1e-6/min|Obj. Stigmator=Quadropol|Obj. Alignment Aid=|Point Resolution=1.4|Obj. Lens Type=Electromagnetic|No. of Proj. Lenses=|Proj. Stability=|Proj. Polpiece Config=Single Polpiece|Proj. Mag=|Proj. Alignment=Mechanical, Electromagnetic|Proj. Lens Type=}} | + | {{Tem list entry|Microscope Name=JEM-4000FX (AHP40L)|Microscope Picture File=JEOL-JEM4000FX-system.jpg|Year=|Successor=JEM-4100|Magnification Range=60x-3Kx, 5Kx - 800Kx|Magnification Gauge Type=Digital|Specemin Chamber Pressure=|Power Consumption=20 KVA|System Weught=4300 Kg (Console), 500 Kg (Powersupply)|Accelerator Type=Multistage electrostatic Linear Accelerator|Cathode Type=LaB6|Acceleration Voltage=100 Kv, 150 KV,200 KV, 250 KV 300 KV, 350 KV, 400 KV, 100V Steps|Stability=2e-6/min|Cathode Heating Methode=DC|Alignment Methode=Electromagnetic|No. of Condensor Lenses=3 (5)|Condensor Stability=|Condensor Stigmator=Octopol|Minimum Spot Size=2µm - 2nm|Condensor Alignment=Electromagnetic|Condensor Lens Type=Electromagnetic|Holder Type=Side Entery rod|Travel Range=8 mm (x), 2 mm (y), 0.5 mm (z)|Obj. Focal Length=4.4 mm|Obj. Adjustment Range=|Obj. Spherical Error=3.4 mm|Obj. Stability=1e-6/min|Obj. Stigmator=Quadropol|Obj. Alignment Aid=|Point Resolution=1.4|Obj. Lens Type=Electromagnetic|No. of Proj. Lenses=5|Proj. Stability=|Proj. Polpiece Config=Single Polpiece|Proj. Mag=|Proj. Alignment=Mechanical, Electromagnetic|Proj. Lens Type=Electromagnetic}} |
[[Category:Electron Microscope]] | [[Category:Electron Microscope]] |
Revision as of 17:27, 2 January 2022
JEOL is an abreviation for "Japanese Electron Optical Laboretory" which was one of Japans first Electron Microscope makers. They are famous for many inovations and machines, including commercialization of the Spherical Abberation Corrector based on the principles of Scherzers Darmstadt Korrektor, as well as building the largest commercial Electron Microscopes ever made.
Transmission Electron Microscopes
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[[File:|200px|link=JEM-100C]] |
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High Voltage Electron Microsocpes
JEM-4000FX (AHP40S) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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JEM-4000FX (AHP40L) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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